メンバー
生駒 嘉史 (IKOMA Yoshifumi)
学歴
平成6年3月 | 九州大学工学部材料工学科卒業 |
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平成8年3月 | 九州大学大学院工学研究科材料物性工学専攻修士課程修了 |
平成11年3月 | 九州大学大学院工学研究科材料物性工学専攻博士後期課程修了 |
職歴
平成8年4月-平成11年3月 | 日本学術振興会特別研究員(DC1) |
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平成11年4月 | 九州大学大学院工学研究科助手 |
平成12年4月 | 九州大学大学院工学研究院助手 |
平成19年4月 | 九州大学大学院工学研究院助教 |
学位
平成11年3月 博士(工学) 論文題目「超音速フリージェットによるシリコンカーバイド薄膜の形成に関する基礎的研究」
研究テーマ
平成23年~現在 High-Pressure Torsionを利用したバルクナノ半導体材料の創製
平成22年~平成24年 SiC/Siヘテロエピタキシャル成長を利用した半導体ナノポア形成
平成11年~平成21年 超音速フリージェットCVD法によるSiC/Siナノ構造の形成
所属学協会
- 日本金属学会
- 応用物理学会